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Tag: 光刻

奈米壓印 Lithography 以直接壓模複製 10 nm 等級圖形，設備成本僅 EUV 一成、能耗降九成。本文深入比較解析度、產能、L10 模具壽命與缺陷密度，解析 Canon 與 EVG 最新試產數據，評估 NIL 在 2 nm 節點取代或補位光刻的可行性，並指出未來混合製程發展方向。
2025/07/09 /

奈米壓印（Nanoimprint Lithography, NIL）會取代光刻嗎？

奈米壓印 Lithography 以直接壓模複製 10 nm 等級圖形，設備成本僅 EUV 一成、能耗降九成。本文深入比較解析度、產能、L1
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ChrisBy Chris
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